平淡平奇|令人心酸！国产光刻机的突破被问“几厘米”，科研人员太难了相信大家已经知道中国首台S

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相信大家已经知道中国首台SMEE封装光刻机成功下线的消息，对此高兴的可不仅仅是我们，就连富士康都心满意足的订购了46台，这将大大促进我国半导体产业链的发展。虽然国产SMEE封装光刻机的问世让不少网友兴奋，但也得到了不少人的“嘲笑” ，而原因也很简单，只因它工艺为65nm而非7nm ，甚至还有人故意问是“几厘米” 。

【平淡平奇|令人心酸！国产光刻机的突破被问“几厘米”，科研人员太难了】这种十分不友好的“嘲笑”无疑让我国的科研人员感到心酸，要知道，我国的科研人员为了研发光刻机，付出了多少努力。虽然这种光刻机不是很先进，但每年高达36万片晶圆的产能，依然为我国摆脱国外的技术垄断做出了巨大贡献。并打破了从无到有的屏障，接下来就是以此为基础，不断的提升自己的技术，往更高的工艺发展。

在这个世界上从来就没有什么不劳而获的技术，都是前人栽树，后人乘凉，欧美等发达国家也不列外，所以我们现在面临的并不是“几厘米”的问题，而是“有”与“没有”的问题。所以你不能拿一个刚刚学会走路的儿童去跟一个成人做比较，只有站在同样的起跑线上，我们才能比较谁的技术更成熟，谁的产业链更完善。

中国是芯片进口大国，我们不可能把所有的希望都寄托在别人的身上，现在我们面临的形势也非常严峻，就连台积电28nm芯片生产线的扩产都受到了美国的限制，因此我们是箭在弦上不得不发。万事开头难，你能想象到几十年前中国的钣金加工还需要工人用锤子慢慢砸打吗？你能想象以前我们的金属打孔定位需要人工卡尺来辅助吗？而如今我国的全自动金属加工生产线，还不都是中国自主研发出来的！

所以中国EUV光刻机的发展也只是时间问题，我们必须要经历从无到有，从弱到强的考验，才能超越欧美国家在技术上的领先优势。希望我国的科研人员能早日打破这一技术瓶颈，为我国的芯片发展扫清一切障碍，为我国的科技进步创造一个全新的时代。

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