全球半导体短缺越来越严重,因为订购和交付半导体的交货时间超过20周 。为了制造尖端半导体,一个单元需要一个非常昂贵的制造设备“EUV”,荷兰ASML公司是全球唯一可以生产制造高端光刻机的厂商,在这方面,日本的诸多光刻机巨头也甘拜下风,美国科技巨头也需要ASML的光刻机,所以荷兰ASML公司在全球半导体产业链当中占据着极其重要的位置 。那么ASML是一家什么样的公司 。

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ASML的旗舰产品是极紫外光刻(EUV)设备,它使用先进的光学技术在硅晶圆上打印微小的电路 。EUV光刻设备每年生产约50台,ASML几乎垄断了这项技术 。
ASML的主要客户是英特尔,三星和台积电等半导体公司,这些公司要求EUV光刻机根据摩尔定律保持计算发展 。ASML在2020年售出了160亿美元的设备 。

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ASML成立于1984年,是飞利浦和ASM International的合资企业 。这是一个非常不起眼的开始,例如成立在飞利浦大楼后面的小屋里 。

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ASML的第一款产品是PA 2000光刻机,这是一种将设计投影到硅上的投影仪(半导体曝光装置) 。但多年来,半导体曝光率一直落后于日本竞争对手尼康和佳能 。1990年,ASML解除了与母公司的资本关系,成为一家独立公司 。

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ASML的第一个热门产品出现在1991年,ASML于1995年以这种势头上市 。上市后,它收购了多家美国光刻公司,在1990年代后期与尼康和佳能一起获得了市场份额 。此外,ASML还下两个大来摆脱困境 。

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作为第一个ASML于2006年使用浸没式光刻技术开发了TWINSCAN系统 。浸没式光刻是一种使用水作为透镜来缩短激光波长并增加芯片上电路数量的技术 。TWINSCAN是ASML的第一个先进产品 。

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而在2000年代中期,ASML在EUV光刻机技术的开发上投入了大量资金 。投资EUV技术是一个很大的风险,因为三星,英特尔和台积电不得不完全重新设计和重建他们的工厂以使用EUV光刻技术 。2008年至2014年间,ASML在EUV技术研究方面投入了50亿美元 。

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EUV光刻机技术所需的科学是在20世纪80年代建立的,这是由美国能源部和AMD,IBM和英特尔等公司领导的一项倡议 。ASML于1999年获得许可 。由于财务问题,佳能决定不追求EUV光刻机,尼康选择完善旧技术 。

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EUV光刻机的操作如下 。
? 锡滴落入真空
中? 照射高功率激光脉冲
? 锡原子被电离形成等离子体
? 镜子捕获等离子体
发射的EUV? 镜子将波长为13.5nm的EUV转移到晶圆上 。

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EUV光刻机的前景如此之好,以至于英特尔,三星和台积电等公司共同收购了ASML 23%的股份 。收购最多的英特尔以250亿欧元(约合3.2万亿日元)的价格收购了15% 。此时收购的大部分股份已经售出 。首款商用EUV产品于2016年发布 。

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