光刻机的作用是用光来刻录电路，即用光线在硅晶圆上刻画出电路图来，而刻蚀机则相反，用来把不需要的部分去掉，只保留划了电路图的部分 。
可见，作用完全不一样的，光刻机用来刻画芯片的电路，而刻蚀机把不需要的部分蚀掉，只保留住光刻机刻录下来的部分 。
目前光刻机国内水平很差，还只能生产90nm的水平，国际上ASML在5nm的水平，相差N代，起码10年以上的差距吧 。
但刻蚀机则不一样了，中国拥有全球最先进的技术，目前已经生产出5nm的刻蚀机了，并且交付给了台积电，明年华为、高通、苹果的5nm的芯片都会用到它 。
中国最牛的刻蚀机厂商是中微半导体，总部在上海 。目前是全球最先进的刻蚀机企业之一 。今年就已经量产了5nm的刻蚀机，目前已交给台积电验证了，所以我们可以认为刻蚀机达到了5nm的水准，也就是世界最先进的水准 。
技术上来来了，市场没上来，因为如果从份额来看，那就是落后很远了，在全球的刻蚀机厂商中，中微半导体的份额不到5%，前四家分别是泛林、应用材料、东京电子、日立，这四家才是真巨头，占了90%以上的份额 。
【请问，被称为芯片的“魄”，国产蚀刻机在世界上处于什么水平？】先回答核心问题，我国蚀刻机处于世界领先水平，可以生产5nm技术的蚀刻机！但是，蚀刻机相比较于光刻机而言，技术含量要低很多，两者完全不在一个档次 。
1、中微掌握先进蚀刻机技术
国内掌握领先蚀刻技术的企业叫中微半导体，2017年4月时中微曾公开宣布掌握5nm工艺蚀刻技术，同年底可以出工程样机，这个宣布时间比掌握相同5nm蚀刻技术的IBM早了2周的时间 。可见中微在蚀刻机领域不说全面领先，那至少也是和世界最高水平相持平 。
中微生产的蚀刻机目前已经被全球多家代工厂商使用，其中就有台积电，早前7nm的蚀刻机在台积电有广泛的应用 。5nm的蚀刻机有消息称现在也已经量产，并已通过台积电的验证，未来将供货给台积电用于5nm芯片的生产线 。
2、中微蚀刻机市场应用份额较低
中微的蚀刻机目前主要应用于三个方面，我们熟知的半导体、IC芯片制造使用的是等离子蚀刻机，主要机型有PrimoAD-RIE、PrimoD-RIE等，其次是应用于半导体封装的硅通孔蚀刻机，以及适用于LED芯片声场的MOCVD设备，前两类设备目前已经应用于全球20多条一流生产线 。
但是就当前中微的全球市场份额而言并不高，根据权威机构的统计，中微的蚀刻机仅占1.4%左右的市场份额 。而全球范围内目前总计有5家企业能生产蚀刻机，除了中微半导体外，剩下均为日美企业，分别为与泛林、应用材料、东京电子、日立，其中泛林占有全球55%的份额 。
Lscssh科技官观点
综合来说，蚀刻机领域我国的技术水平已经和国外竞争者持平，但是就市场占有率而言，中微的差距还很大，毕竟日美这些传统强者在这个领域并未衰退，想要从他们口中抢食并非一朝一夕能成 。相信未来的中微不仅能在技术上超越竞争对手，在市场份额上也能持续蚕食竞争对手们 。
最后再提一点，蚀刻机整体的技术含量不如光刻机，我国想要在半导体领域取得最终的突破，光有蚀刻机不行，核心还得靠光刻机上取得重大突破 。
蚀刻机我国的水平已经达到了世界一流水平，我们的蚀刻机水平已经达到了目前世界上最先进的5纳米级别，当然并不是只有我们自己一家达到这个水平，世界上总共能做到5纳米级别的有四五家，我们只是其中一家，日本可以做到，美国可以做到，欧洲也有一家可以做到这样的精度，所以说我们的蚀刻机水平是目前世界上最先进之一 。

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